概览
SilcoNert®2000是非晶硅的化学保护屏障,其进一步官能化以提供可用的最惰性表面。通过应用化学气相沉积(CVD),SilcoNert®2000非常适用于硫化物,汞,氨或其他活性化合物的痕量级测试精度(<百万分之一)。
特色与优势
•非视距工艺;所有孔和复杂的几何形状都能被涂层
•消除吸附和再测试
•获得更快的校准
•对结果充满信心
SilcoNert® 2000 规格
基板兼容性*: SS合金,陶瓷,玻璃,钛及大多数特殊金属,TIG / MIG焊 接、真空镍钎焊区域
允许温度范围*: -210°C ~ + 450°C(惰性气体),400°C(氧化性气体)
标准厚度: 100-500 nm
允许接触的pH值 : 0-8
润滑性(摩擦系数): 0.7
疏水性(接触角): 80°
耐磨性(盘上针法测试磨损率):14.00(304不锈钢:13.81)