同位素气体是指由同位素原子组成的气体。同位素是指具有相同质子数和不同中子数的同种元素，因此它们的物理属性和化学性质可能存在差异。本文将介绍同位素气体的性质及其在科学研究和工业领域中的应用。一、同位素气体的性质稳定性与放射性同位素气体的稳定性取决于其原子核中的中子数。例如，氢的同位素有三种：氕(H)、氘(D)、氚(T)，其中氕是稳定的，而氘和氚是放射性的。这种放射性可用于生产能量或作为示踪剂。质量与分子结构同位素原子的质量不同，因此由它们组成的分子质量也不同。这会影响到气体的物...

高含量氧分析仪测定的因素主要有以下几点：1.泄漏。高含量氧分析仪在初次启用前必须严格检漏。高含量氧分析仪只有在严密不漏的前提下才能获得准确的数据结果。任何连接点，焊点，阀门等处的不严密，将会导致空气中的氧反渗进入管道及氧分析仪内部，从而得出含氧量偏高的结果。2.污染。在重新使用高含量氧分析仪时，首先须注意在连接氧分析仪的取样管路时是否漏入空气，并且必须认真将漏入高含量氧分析仪的空气吹除干净，尽量不使大量氧气通过高含量氧分析仪的传感器以延长传感器寿命。在管道系统净化过程中，为缩...

1、分析仪的配套管线应确保密封，微小的泄漏都会使环境空气中的氧扩散进来，从而使测量数值偏高。虽然在测量中，样气压力大于环境压力，但样气中的氧是微量级的，根据法拉利定律，氧的分压与其体积含量成正比，大气中含有约为21%的氧，与以PPM计算浓度的样气的氧分压相差一万倍左右，因而气样中微量氧的分压远低于大气中的氧分压，当出现泄漏时，大气中的氧便会从泄漏部位迅速扩散进来。还有，取样管线应尽可能短些，接头尽可能少，要保证接头及阀门密封良好，管线连接完毕后，应做气密性检查。气密性检查的要...

在线非甲烷总烃分析仪可选配浓度超标报警系统在线非甲烷总烃分析仪的工作原理是样品经过滤后，经由十通进样阀，送入色谱柱进行分离，把甲烷与其他碳氢化合物分离开来，采用FID火焰离子检测器进行测量。色谱柱可以选用毛细柱或填充柱。每次测量前，可以通过自动零点校正系统调零，确保零点稳定。仪表配有自动色谱工作软件，Intel处理器控制仪表运行，实时诊断仪表工作状态，在大屏幕显示屏上，可以显示色谱图及仪器的各项指标。功能特点：1.网络数字信号传输2.采样时间，测量数据频率可设置3.可定制为防...

PDHID氦离子化气相色谱仪是一种高灵敏度、高选择性分析空气中微量有机物的仪器。采用双探测器技术，即PD（PhotoionizationDetector）与HID（HeliumIonizationDetector）两种检测器相结合。PD检测器以紫外光为能量源，将样品中的有机物分子电离成正离子，然后通过电场加速器传递至离子收集极上形成一个电流信号，从而实现对有机物的定量分析；而HID检测器则利用氦原子激发样品中的有机物分子产生碎片离子，然后再次通过电场加速器传递至离子收集极上形...

中华人民共和国国家计量检定规程国家质量监督检验检疫总局发布微量氧分析仪检定规程VerificationRegulationofMicroOxygenAnalyzers本规程经国家质量监督检验检疫总局于2010年6月10日批准，并自2010年12月10日起施行。微量氧分析仪检定规程1范围本规程适用于测量范围为0～1000vmol／mol微量氧分析仪的检定、后续检定和使用中的检验。2概述微量氧分析仪(以下简称仪器)主要用于化学、冶金、电子工业等领域中生产和应用的气体中微量氧含量的...

概览SilcoNert®2000是非晶硅的化学保护屏障，其进一步官能化以提供可用的最惰性表面。通过应用化学气相沉积（CVD），SilcoNert®2000非常适用于硫化物，汞，氨或其他活性化合物的痕量级测试精度（特色与优势•非视距工艺；所有孔和复杂的几何形状都能被涂层•消除吸附和再测试•获得更快的校准•对结果充满信心SilcoNert®2000规格基板兼容性*：SS合金，陶瓷，玻璃，钛及大多数特殊金属，TIG/MIG焊接、真空镍钎焊区域允许温度范围*：...

概述Dursan®是一种提供化学防护屏障的含硅、氧和碳的非晶涂层,并且作了进一步功能化以减少对腐蚀性、反应活性和其它不利分子的吸附。以化学气相沉积（CVD）法制成的Dursan®涂层,是应用中需要稳定且化学惰性表面时的选择。主要应用和优势•以低成本达到类似稀有合金的抗腐蚀性能•提高系统耐用性•提高仪器精度和响应时间•防粘易释,易于清洁的表面Dursan®性能指标沉积工艺:功能化硅胶样涂层(a-SiOX:CHY)涂层结构:热化学气相沉积(非等离子体增强)...

本资料全面介绍了SilcoTek®公司和其研发的涂层技术以及这些技术所能解决的关键问题。1985年，PaulSilvis在一家由小学改造成的企业孵化基地的一个房间里开设了一家色谱公司Restek®。1987年，Restek®发明了最初的SilcoSteel®涂层技术，使分析仪器金属表面具有玻璃一样惰性。1993年，Restek®涂层研发团队开发了一种处理其它分析部件（如阀门、接头等）的方法。1998年，Restek®荣获多项表面...